影響鍍鋅層(ceng)沉積速度的(de)十二種要素(sù)

影響鍍(du)鋅層沉積速(sù)度的十二種(zhǒng)要素

(1)前處理不(bu)徹底。工件表(biǎo)面有氧化膜(mó)，影響鋅的正(zheng)常🈲沉積。

    (2)導電不(bú)良。電流在導(dǎo)線上消耗，分(fèn)配到工件表(biǎo)面的電🔞流過(guò)小。

    (3)工件含碳量(liang)高。高碳鋼、鑄(zhù)鐵件等會降(jiang)低氫的析出(chū)電位，工件表(biao)面析氫加速(su)，電流效率降(jiang)低。

    (4)工件綁紮過(guo)密。鍍鋅時工(gōng)件局部遭到(dào)屏蔽而導緻(zhì)鍍層🔴過薄。

    (5)鍍液(yè)溫度偏低。當(dāng)鍍液溫度偏(piān)低時配送的(de)電流密度♊相(xiang)應降💋低，鍍層(céng)的沉積速度(dù)也必然降低(dī)。

    (6)鍍(dù)液中氫氧化(huà)鈉含量偏高(gao)。氫氧化鈉含(han)量偏高時😍電(dian)流效率相💰應(yīng)降低。

    (7)鍍液中添(tian)加劑含量偏(piān)低。添加劑含(han)量偏低會影(yǐng)響分散能力(lì)，鍍層局部顯(xiǎn)得過薄。

    (8)受鍍件(jian)面積估算不(bu)足，施鍍時配(pei)送的電流密(mi)度顯🐇得🏃🏻‍♂️過小(xiao)。

    (9)工(gōng)件懸挂方法(fa)不當，與鋅陽(yáng)極間距過大(dà)，應調整位置(zhi)。

    (10)工(gong)件過腐蝕。降(jiang)低氫的析出(chu)電位，工件表(biao)面析氫加速(sù)電流效率降(jiàng)低，從而影響(xiǎng)鋅的沉積速(sù)度。應在酸洗(xǐ)溶液中加入(rù)适量的緩蝕(shi)劑，局部處氧(yǎng)化皮過厚🌈先(xian)用機械法除(chú)去，酸洗過程(cheng)中多作檢查(chá)。

    (11)陽(yáng)極鈍化。有效(xiao)面積減少，影(yǐng)響電流的正(zheng)常分布。

    (12)氫氧化(hua)鈉含量偏低(dī)。若氫氧化鈉(na)含量偏低時(shi)，電流密度提(ti)不高，陽極鈍(dùn)化